2024-11-23 03:03:40
阻尼抛光布被推荐用于特别要求边缘保持的试样。纯铝和有些合金容易嵌入细的金刚石颗粒,特别当使用悬浮液时更明显。如果发生嵌入,请将金刚石悬浮液改成金刚石抛光膏,这样将减少嵌入。特纯和商业纯可以增加一个短时间的震动抛光(与步骤使用相同的抛光介质),虽然震动抛光通常是不要求的,但却可以提高划痕的消除。对铝合金来讲,氧化铝悬浮液被发现是非常有效的终抛光介质。然而,标准的煅烧氧化铝抛光介质是不适合铝合金的。人工合成无绒抛光布配合硅胶用于抛光产生的浮雕,要比利用短绒或中绒抛光布产生的浮雕浅的多,但无绒抛光布也许无法消除抛光划痕。对非常纯的铝合金,随后可增加震动抛光以提高表面光洁度,制备完全无划痕的表面是非常困难的事情。对许多铝合金,理想的抛光结果可以通过四步制备程序获得,尽量保留铝合金中全部的金属间化合物微粒和并将浮雕小化。价格实惠质量靠谱金相抛光液!上海抛光液
彩色腐蚀剂与硅胶抛光的表面反应的更好,常常产生丰富的色彩和图象。但是,试样的清洁却不是件容易的事情。对手工制备,应用脱脂棉裹住并浸放在清洁剂中。对自动制备系统,在停止 -15秒停止加研磨介质。在 10秒,用自来水冲洗抛光布表面,随后的清洁就简单了。如果允许蒸发,无定形硅将结晶。硅晶可能滑伤试样,应想法避免。当打开瓶子时,应把瓶口周围的所有晶体颗粒 干净。 安全的方法是使用前过滤悬浮液。添加剂应将晶体化减到 小,如赋耘硅胶抛光液配合对应金相抛光布效果就比较好。上海抛光液赋耘检测技术(上海)有限公司,不同抛光液效果如何?
微电子材料所指的材料范围很广,这是因为微电子设备很复杂,包含大量单个组件。例如,微处理器的失效分析可能会要求金相工作者正好从多层镀层(例如氧化物、聚合物、易延展的金属如铜或铝、难熔金属如钨或钛-钨)的硅片的横截面切割。另外,包装材料也可能含有机械性能各异的材料如I氧化铝或焊料。这些焊料有可能含有高达97%的铅。可以想象将这么多性能各异的材料整合到一个单一的设备里,并开发出一个适用于所有材料的制备程序的可能性就不存在,所以我们必须将注意力集中在几种材料上,去开发我们所要关注材料的试样制备程序。硅对硅胶的化学机械抛光反应良好,但与氧化铝的反应较差。氧化铝悬浮液可以用于终的抛光,这就又返回到以前提到的试样制备理论了。当硅模与铅框材料,例如镀镍的铜,铅框和模具材料被制备时。此时,我们不用考虑硅的表面光洁度,相反我们要确保镍没有出现挂灰以利于辨别铅框材料的真实组织。
α氧化铝()和γ氧化铝()混合液(或悬浮液),通常用于的抛光,一般按照正常使用顺序或异乎寻常地顺序。氧化铝悬浮液是利用凝胶生产工艺对氧化铝进行加工,这比传统煅烧方法加工的氧化铝获得的表面光洁度要好的多。煅烧方法加工的氧化铝颗粒常表现出一定程度的聚集成团现象,可将其解离,而凝胶生产工艺的氧化铝就没有这些问题。硅胶悬浮液(基本pH约)是一种较新的抛光介质,该方法结合化学和机械过程的双重作用,对难制备的材料效果较好。震动抛光机,经常用于终抛光步骤,特别适合那些难制备的材料,图象分析研究目的的试样或要求较高质量的出版物的试样制备。传统的水基的氧化铝粉和混合液,例如氧化铝粉和悬浮液被用于中绒抛光布上的的抛光。赋耘金相抛光液的产品特点!
铜的金相制样制备纯铜是一种非常延展可锻的金属。铜和铜合金的成分范围很广,从各种近似纯铜的电器 产品到合金程度较高的黄铜和青铜以及可沉 淀硬化的 铜合金。铜和铜合金在粗切和粗研磨时很容易损 伤, 并且损伤的深度相对较深。对纯铜和黄铜 合金, 去除划痕非常困难。紧随之后利用硅胶 进行的短时间震动抛光去除划痕非常有效。以 前, 利用侵蚀抛光剂去除划痕, 但现代这就不 是必须的了, 现代都用震动抛光来去除划痕。打磨砂纸3道,600# ,1200# ,2500# ,抛光用3微米金刚石悬浮抛光液配绸布,1微米金刚石悬浮抛光液配合醋酸布,精抛配0.05微米阻尼布达到理想效果。适用于金属抛光的抛光液!上海陶瓷抛光液
如何控制抛光液的用量?上海抛光液
铁基材料及其合金的制备 应采用现代的试样制备方法。这对边缘保护 及夹杂物的鉴定来讲, 非常理想, 尤 其当全自动制样设备使用时的效果 为明显。 随后推荐的制备程序适用于大多数的铁基材 料及其合金这样的试样制备方法对铸铁,包括石墨铸 铁在内均适用。 打磨可以打三到四道,240# ,800# ,1500# ,2000#,抛光可以抛光两道,一个粗抛一个精抛,粗抛用呢绒,精抛光用阻尼布,由于含有大 量硅及潜在的污染, 所以在 终的抛光过程中 使用氧化铝悬浮液进行抛光。上海抛光液